临睡前班行远接到封剑锋的电话，已经赋闲在家，2002年提过给班行远介绍对象的长者看了晚上的新闻，对那个集中学习的内容非常感兴趣，就要了有关资料。中枢考虑了一下觉得最好还是班行远这个授课老师亲自去解释一下最好。而且这种重要的事情在谋划的时候肯定要征求老同志的意见的。
班行远让封剑锋查了一下下周的工作安排，刚好周一到周三要去长三角地区调研高科技产业发展，就把拜访长者的时间定在了周一的晚上。
第二天班行远一早就带着随行人员飞赴上海。在和有关人员做了短暂交流座谈后也没让地方有关部门陪着就去事先选定的两家企业实地调研。
先是去了中芯国际，一家芯片代工企业。中芯国际的设备还是非常先进的，阿斯麦28nm制程的光刻机，但是良品率不是特别高。设备是设备，生产工艺是生产工艺，需要自己摸索。在这方面还是有差距的。
格物致知研究院自研的光刻机也是这个水平，唯一的区别就是因为自己是设计生产光刻机的，对工艺摸得非常透，28nm芯片的良品率极高。如果有需要的话，在不增加成本的情况可以把制程推进到22nm，这已经是当前最先进的制程了。
其实通过特殊的工艺还可以把制程推进到16nm左右，已经远超过当前先进水平了。代价就是良品率下降导致成本增加。不过国内暂时还没这方面的需求。至微公司打算率先投产的功率芯片都用不到28nm工艺，使用研究院上一代40nm工艺的光刻机都绰绰有余了。
这章没有结束，请点击下一页继续阅读！当然了，等至微的工厂建好后肯定会同步使用研究院最先进制程的设备。
研究院正在研发的光刻机起始制程是14nm3D工艺，在特殊工艺下可以推进到7nm。已经完成理论设计，各组件生产测试工作已经开始。没有什么窍门儿，就是拿钱砸。每过一段时间柳浥尘和启清霜批经费的时候看着数字心直颤，当真是花钱如流水。没有办法，因为落后只能采取这种方式。再下一代就能按部就班了，这时候基本就能追上阿斯麦了。
在了解了中芯国际面临的难题后，班行远建议他们到格物致知研究院寻求帮助。“格物致知研究院模拟了你们这款光刻机的生产工艺，可以实现22nm工艺很高的良品率。如果能接受良品率降低的话，使用它们研发的特殊工艺可以把工艺推进到16nm。你们可以找他们帮忙。”
中芯国际的技术负责人听了直吐血，能做到22nm已经赶上英特尔了，至于16nm，呵呵还没有一家Fab能实现。他们也知道阿斯麦14nm的光刻机还没有定型，格物致知研究院的水平有些过于夸张了吧。班行远离开后这位负责人给格物致知研究去了电话，得到明确的答复后立刻就购买机票飞赴京城。
随后又去了联影，一家研发生产CT、MRI等医疗设备的企业。CT、MRI的硬件原理是公开的，设计起来也没什么难度，最核心的其实是信号处理和数据算法，这恰好是研究院的强项。本来研究院的数学实力就强的离谱，加上班行远提供的那些连宗文远都搞不清楚原理但是非常好用的数学工具加持，研究院在信号处理和数据算法上有着跨越式的领先。
做为分管科技事业的中书省成员，班行远自然不介意研究院分享一些不是特别核心的技术，推进国内科技事业的整体提升。
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